技術・研究開発Technology/R&D 尾池工業トップ 技術・研究開発 コーティング技術解説コラム PVDとは コーティング技術解説コラム 薄膜を作るには ドライコーティングとは PVDとは 真空とは 薄膜とは 真空蒸着とは スパッタリングとは CVDとは PVDとは 物理的な成膜方式で、主に高真空(10-1~10-5Pa)の状態において、薄膜となる成膜物質を加熱、スパッタリング、イオンビーム照射、レーザー照射などで粒子(原子・分子)の状態に蒸発・飛散させ、基板・基材表面に付着・堆積させる方法。 PVD技術の特性1 成膜速度⇔面積(面積に対して、成膜速度をあらわしています。) PVD技術の特性2 エネルギー⇔面積(面積に対して、成膜エネルギーをあらわしています。) PVD技術の応用範囲 PVDでの、段階的な薄膜の形成過程